-
1 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
2 chemical vapor deposition
Polymers: CVDУниверсальный русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
3 CVD-kasvatus
• chemical vapor deposition• CVD -
4 CVD
-
5 CVD
chemical vapor deposition — химическое осаждение из газообразного состояния вещества на подложку ( метод роста кристаллов из газовой фазы)chemical vapor deposition — химическое осаждение из паровой фазы, нанесение твёрдого покрытия парообразными химическими соединениями (напр., парами карбидов хрома и титана) -
6 LP CVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > LP CVD
-
7 химическое осаждение из паровой фазы
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > химическое осаждение из паровой фазы
-
8 осаждение покрытий из газовой и паровой фазы
Методы формирования покрытий из газов или паров, реализуемые как при атмосферном давлении, так и в вакууме с протеканием химических реакций или без них.Углеродные материалы > осаждение покрытий из газовой и паровой фазы
-
9 chemische Aufdampfung
-
10 chemische Bedampfung
-
11 chemisches Abscheiden von Feststoffen aus der Gasphase
German-english technical dictionary > chemisches Abscheiden von Feststoffen aus der Gasphase
-
12 химическое осаждение из паровой или газовой фазы
Makarov: chemical vapor deposition( CVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой или газовой фазы
-
13 химическое осаждение из паровой фазы
химическое осаждение из паровой фазы
Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы
-
14 химическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: (газовой) chemical vapor deposition, chemical vapor deposition2) Electronics: chemical vapor plating3) Microelectronics: cvd, chemical vapour depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы
-
15 химическое осаждение из газовой фазы
1) Electronics: chemical vapor deposition, chemical vapor plating2) Solar energy: CVD3) Makarov: chemical gas-phase depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из газовой фазы
-
16 deposizione chimica da fase vapore
Dizionario chimica Italiano-Inglese > deposizione chimica da fase vapore
-
17 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: plasma enhanced chemical vapor deposition2) Silicates: plasma chemical vapor deposition3) Microelectronics: plasma-enchanced CVDУниверсальный русско-английский словарь > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
-
18 химическое парофазное осаждение
1) Microelectronics: chemical vapor deposition, chemical vapour deposition2) Makarov: CVDУниверсальный русско-английский словарь > химическое парофазное осаждение
-
19 процесс химического осаждения из газовой фазы
1) Engineering: CVD process2) Makarov: chemical vapor deposition process (CVD process)Универсальный русско-английский словарь > процесс химического осаждения из газовой фазы
-
20 химическое осаждение из газовой среды
Automation: CVD deposition, chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из газовой среды
- 1
- 2
См. также в других словарях:
Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
chemical vapor deposition — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical Vapor Deposition (journal) — Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo … Wikipedia
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Chemical vapor infiltration — (CVI) is a variant on Chemical Vapor Deposition (CVD). CVD implies deposition onto a surface, whereas CVI implies deposition within a body. Chemical vapor infiltration is widely used as a means of fabricating Ceramic Matrix Composites (CMCs) such … Wikipedia